直接测定偏钒酸钾中微量杂质钠，定 限与量检测范围0.010%~1.0%。试验并总结了在高钒、 度好高钾共存的复杂样品基体介质中，光谱干扰、基体 的检效应、背景噪音等影响因素所导致的正负干扰，通过采取优选分析谱线和仪器检测参数，以及同步背景校正和基体匹配相结合的技术措施，有效克服了高钒高钾基体和氙气分子谱带测定的影响。方法简单实用、操作方便快捷、干扰影响因素少、检测下限与背景等效浓度低、检测浓度含量范围宽，精密度好、准确度高，满足了偏钒酸钾产品微量杂质钠的检验需要。
由式(1)可知，钙化反应生成大量KOH，溶液中初始钒酸钾浓度越高，生成的KOH 浓度越高，KOH 浓度过高会阻碍钙化反应进行，实际生产中反应初始溶液旱中性，随反应进行，溶液中 KOH 浓度升高，实验通过调节钒酸钾加入量，将其换算为理论反应终点KOH浓度.
分别配制不同 KOH 终点浓度的钒酸钾溶液进行反应，反应条件为:CaO 加入量为生成 CanV.O理论量的 1.2 倍，反应温度 90℃，反应时间2 h，实验结果见图 4.可见随 KOH 浓度增加，钒转化率逐渐降低，KOH浓度低于190g/L时，偏钒酸钾市场价格，钒转化率均在92%以上:KOH浓度大于160 g/L 后，反应体系中固相含量高。
Na 589.592 nm受到钒钾基体效应干扰影响的情况与 Na 330.237 nm 基本相同，均是钒导致背景基线升高信号强度增加，钒钾混合溶液由于钾的抑制作用抵消了部分钒所导致的正干扰，偏钒酸钾价格，但总体上钒钾基体对Na 589.592 nm仍产生较强正千扰，偏钒酸钾，而且与图1相比，位于可见光区域的Na589.592nm，由于同时还受到气分子谱带的背景噪音影响，Na589.592nm的背景基线明显升高，约为Na330.237 no的10余倍，表明钒钾基体效应以及气分子谱带背景噪音的双重干扰导致其检测信号强度显著，但是由于背景信号基线仍然比较平直，校正背景后预的净信号强度以及背景等效浓度值接近于零，表明通过同步背景校正和基体匹配措施能够消除其影响，避免背景和基体效应干扰。
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